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準(zhǔn)直器生產(chǎn)光斑分析儀優(yōu)勢

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-29

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價(jià)比光束質(zhì)量檢測解決方案,涵蓋掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線: 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),支持 190-2700nm 寬光譜范圍,可測量 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級光斑細(xì)節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光,適用于激光加工等高能量場景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動態(tài)分析,可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產(chǎn)品,通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測場景。激光發(fā)散角怎么測,維度光電M2測量系統(tǒng)。準(zhǔn)直器生產(chǎn)光斑分析儀優(yōu)勢

光斑分析儀

維度光電深刻認(rèn)識到高功率光束檢測在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測量近 10W 高功率激光,保障了測試過程的安全與高效。為應(yīng)對更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)和 C 口安裝,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝,能應(yīng)對 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒?yàn)環(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實(shí)現(xiàn)更高功率激光測量。同時(shí),其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的取樣光程滿足聚焦光斑測量,單次 68mm,雙次 53mm,為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測支持。近紅外光斑分析儀測量掃描和狹縫光斑分析儀怎么選?

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維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質(zhì)量參數(shù),為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應(yīng)用提供支撐。工業(yè)加工中,其亞微米級光斑校準(zhǔn)能力幫助優(yōu)化切割、焊接與打標(biāo)工藝,確保光束輪廓一致性,保障加工質(zhì)量。醫(yī)療領(lǐng)域用于眼科準(zhǔn)分子激光手術(shù)設(shè)備校準(zhǔn),實(shí)時(shí)監(jiān)測光束能量分布,確保手術(shù)安全性。科研場景中支持皮秒級脈沖激光測量,為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù),推動新型激光器件。光通信領(lǐng)域可實(shí)現(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析,保障光信號傳輸穩(wěn)定性。農(nóng)業(yè)與生命中,通過分析激光誘變育種光束參數(shù),優(yōu)化植物生長調(diào)控效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜,支持千萬級功率測量,結(jié)合M2因子測試模塊與AI分析軟件,為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到傳播特性的全鏈路檢測方案,助力客戶提升產(chǎn)品性能與生產(chǎn)效率。

BeamHere 分析軟件作為組件,支持多設(shè)備協(xié)同工作:掃描數(shù)據(jù)自動校準(zhǔn)、光斑模式智能識別、M2 因子三維重建。通過機(jī)器學(xué)習(xí)算法,可自動補(bǔ)償環(huán)境光干擾與溫度漂移。通過可視化界面,用戶可實(shí)時(shí)查看光斑能量分布云圖、發(fā)散角變化曲線及束腰位置動態(tài)圖,支持多參數(shù)聯(lián)動分析。軟件內(nèi)置模板庫,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,支持 PDF/Excel/XML 多格式導(dǎo)出,并支持?jǐn)?shù)據(jù)追溯與批量處理,歷史數(shù)據(jù)可自動關(guān)聯(lián)測試條件,縮短測試周期。企業(yè)版支持用戶權(quán)限分級管理與數(shù)據(jù)加密。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質(zhì)量?

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維度光電-光斑分析儀的使用 科研場景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實(shí)驗(yàn)平臺,使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時(shí)間序列分析" 功能,觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調(diào)用 "光束質(zhì)量評估" 模塊,計(jì)算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長、脈寬等實(shí)驗(yàn)參數(shù),生成帶批注的報(bào)告。 工業(yè)場景 在激光切割設(shè)備光路中插入 BeamHere,選擇 "在線監(jiān)測" 模式。 實(shí)時(shí)顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數(shù)。 當(dāng)檢測到光斑漂移超過閾值時(shí),軟件自動觸發(fā)警報(bào)并記錄異常數(shù)據(jù)。 每日生成生產(chǎn)質(zhì)量報(bào)表,統(tǒng)計(jì)良品率與設(shè)備穩(wěn)定性趨勢。掃描狹縫光斑分析儀有國產(chǎn)的嗎?維度科技光斑分析儀測量

極小光斑測量的光斑分析儀。準(zhǔn)直器生產(chǎn)光斑分析儀優(yōu)勢

Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個型號,覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)顯示與分析。其優(yōu)勢如下: 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求,支持 2D 光斑實(shí)時(shí)成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下,可實(shí)時(shí)捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動態(tài)測試及時(shí)間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計(jì)簡化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計(jì),光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。準(zhǔn)直器生產(chǎn)光斑分析儀優(yōu)勢

標(biāo)簽: 光斑分析儀