從蝕刻速度及安全性的觀點來看,推薦為40℃至70℃,更推薦為45℃至55℃。處理時間視對象物的表面狀態及形狀等而變化,通常為30秒至120秒左右。實施例然后,對本發明的實施例與比較例一起進行說明。此外,本發明并非限定于下述實施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液,在下述條件下進行蝕刻試驗及蝕刻液的穩定性試驗。此外,表1及表2所示的組成的各蝕刻液中,剩余部分為離子交換水。另外,表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計的濃度。(蝕刻試驗)通過濺鍍法在樹脂上形成50nm的鈦膜,然后成膜200nm的銅膜,進而通過電鍍銅在該銅膜上形成圖案,將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液,將試樣的濺鍍銅膜溶解而使鈦膜露出。然后,將試樣浸漬在實施例1至實施例12及比較例1至比較例3的蝕刻液中進行蝕刻實驗。將實驗結果示于表1。[表1]像表1所示那樣,本發明的蝕刻液可在不蝕刻銅的情況下選擇性地蝕刻鈦。(蝕刻液的穩定性試驗)將實施例1、實施例7、實施例12及比較例4的蝕刻液在室溫下放置2天后,進行所述蝕刻試驗,比較放置前后的蝕刻速度。將比較結果示于表2。[表2]像表2所示那樣,本發明的蝕刻液的保存穩定性優異,即便在長期保存的情況下也可穩定地選擇性地蝕刻鈦。銅蝕刻液的配方是什么?蘇州鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液廠家現貨
技術實現要素:本實用新型的目的在于提供高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產裝置,以解決上述背景技術中提出密封性差,連接安裝步驟繁瑣的問題。為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產裝置,包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機,所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿,所述裝置主體的后面一側底部固定連接有電源線,所述裝置主體的一側中間部位固定連接有控制器,所述裝置主體的內部底端一側固定連接有單片機,所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲罐,所述裝置主體的頂部一側固定連接有磷酸儲罐,所述磷酸儲罐的底部固定連接有攪拌倉,所述攪拌倉的內部頂部固定連接有攪拌電機,所述攪拌倉的另一側頂部固定連接有醋酸儲罐,所述裝置主體的頂部中間一側固定連接有硝酸儲罐,所述裝置主體的頂部中間另一側固定連接有陰離子表面活性劑儲罐,所述陰離子表面活性劑儲罐的另一側固定連接有聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐,所述裝置主體的頂部另一側固定連接有氯化鉀儲罐,所述裝置主體的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲罐,所述裝置主體的內部中間部位固定連接有連接構件。揚州哪家蝕刻液蝕刻液生產您的選擇是對我的肯定,蘇州博洋化學股份有限公司歡迎您。
提高反應體系的穩定性。當體系中加入過氧化氫后有助于提高過氧化氫的穩定性,避免由于過氧化氫分解而引發的,提高生產的安全性。具體實施方式下面結合實施例,對本發明的具體實施方式作進一步描述。以下實施例用于更加清楚地說明本發明的技術方案,而不能以此來限制本發明的保護范圍。一種酸性銅蝕刻液的生產工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;純水罐中設有通過電路控制的電磁閥,當純水溫度高于10℃時,電磁閥無法打開。第二步:配制和準備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應的原料罐中,經過過濾器循環過濾,備用;將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應的原料罐,備用。亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸需要稀釋后使用,hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2無需調配可直接用于制備蝕刻液。第三步:根據混酸配制表算出各個原料的添加量,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調配罐,將上述混料充分攪拌,攪拌時間為3~5h。第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,繼續攪拌混勻,攪拌時間為3~5h,用磁力泵將混合液通過過濾器循環過濾。
裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲罐21,裝置主體1的內部中間部位固定連接有連接構件11,裝置主體1的內部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10,連接構件11的內側固定連接有過濾部件9,裝置主體1的內部底端另一側固定連接有收集倉8,收集倉8的另一側底部固定連接有密封閥門7,過濾部件9的頂端兩側活動連接有滑動蓋24,過濾部件9的內部中間兩側固定連接有收縮彈簧管25,連接構件11的內側兩端嵌入連接有螺紋管27,連接構件11的內部中間兩側活動連接有活動軸28,連接構件11的內側中間兩側嵌入連接有密封軟膠層29。推薦的,硝酸鉀儲罐21的頂部嵌入連接有密封環22,在將制備蝕刻液儲罐加入制備材料的時候,需要將儲罐進行密封,密封環22能將硝酸鉀儲罐21和其他儲罐的頂蓋與儲罐主體連接的位置進行密封,使硝酸鉀儲罐21和其它儲罐的內部形成一個密閉的空間,避免環境外部的雜質進入儲罐內,有效的提高了裝置使用的密封性。推薦的,連接構件11的兩側嵌入連接有海綿層12,在使用裝置制備蝕刻液的時候,需要通過連接構件11將裝置主體1內部的部件進行連接,在旋轉連接構件11的兩側時,操作人員的手會與連接構件11接觸,海綿層12可以將操作人員手上的水分進行吸收。哪家公司的蝕刻液是比較劃算的?
近年來,oled顯示器廣泛應用于手機和平板顯示。金屬銀以優異的電導率和載流子遷移率被廣泛應用于oled顯示器的陽極布線(ito/ag/ito)結構中。為了對此進行蝕刻,目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀,但在實際使用過程中仍會存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問題。4.本發明所要解決的技術問題在于如何解決現有的銀蝕刻液在使用過程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問題。5.本發明通過以下技術手段實現解決上述技術問題的:6.一種銀蝕刻液組合物,其成分由質量占比為40-60%磷酸、2-10%硝酸、%有機酸、%硝酸鹽、%含氮元素有機物、其余為水組成。 哪家的蝕刻液比較好用點?蘇州江化微的蝕刻液蝕刻液什么價格
使用蝕刻液的時候需要注意的事項有哪些?蘇州鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液廠家現貨
如前文所述,必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,因此,該復數個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細現象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經由該復數個宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖9所示)。再者,請再參閱圖10至圖12所示,為本實用新型蝕刻設備其二較佳實施例的擋液板結構結合風刀裝置示意圖、其三較佳實施例的擋液板結構結合風刀裝置示意圖,以及宣泄孔的表面張力局部放大圖,其中該宣泄孔121為直通孔與斜錐孔混合的態樣(如圖10所示),或是全部為斜錐孔的態樣(如圖11所示),其中該宣泄孔121具有一***壁面1211與一第二壁面1212,且該第二擋板12具有一下表面122,當該宣泄孔121為斜錐孔的態樣時,該***壁面1211與該下表面122的***夾角θ1不同于該第二壁面1212與該下表面122的第二夾角θ2,亦即該***壁面1211與該第二壁面1212可不互相平行,但應避免該***夾角θ1與該第二夾角θ2差距過大而造成毛細現象破除;此外,當該宣泄孔121為斜錐孔態樣時。蘇州鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液廠家現貨