需要說明的是,本發(fā)明剝離液中,推薦*由上述成分構(gòu)成,但只要不阻礙本發(fā)明的效果,可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說明的本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分溶于水中來制備。需要說明的是,本發(fā)明剝離液的ph若為堿性則沒有特別限定,但通常**將上述成分溶于水就成為堿性,因此沒有特別必要調(diào)整ph。另外,本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分分別分開預(yù)先溶于水,成為抗蝕劑的剝離液套件,將它們混合來制備。具體來說,可以舉出以包含含有鉀鹽的第1液和含有溶纖劑的第2液為特征的抗蝕劑的剝離液套件、其中還包含含有硅酸鹽的第3液的抗蝕劑的剝離液套件、進(jìn)而在其中使上述其它成分適當(dāng)含有于各液中的抗蝕劑的剝離液套件等。通過使用本發(fā)明剝離液對(duì)施加有抗蝕劑的基材進(jìn)行處理,抗蝕劑被細(xì)小地粉碎。哪家的剝離液的價(jià)格優(yōu)惠?池州半導(dǎo)體剝離液推薦廠家
常在印刷電路板,液晶顯示面板,半導(dǎo)體集成電路等工藝制造過程中,需要通過多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等工序在硅晶圓或玻璃基片上形成多層精密的微電路,形成微電路之后,進(jìn)一步用剝離液將涂覆在微電路保護(hù)區(qū)域上作為掩膜的光刻膠除去。比如光電TFT-LCD生產(chǎn)工藝主要包含光阻涂布、顯影、去光阻、相關(guān)清洗作業(yè)四大階段,其中在去光阻階段會(huì)產(chǎn)生部分剝離液。印制電路板生產(chǎn)工藝相當(dāng)復(fù)雜。不僅設(shè)備和制造工藝的科技含量高,工藝流程長(zhǎng),用水量大,而且所用的化學(xué)藥品(包括各種添加劑)種類多、用量大。因此,在用減成法生產(chǎn)印刷線路板的過程中,產(chǎn)污環(huán)節(jié)多,種類繁雜,物料損耗大。可分為干法加工(設(shè)計(jì)和布線、模版制作、鉆孔、貼膜、曝光和外形加工等)和濕法加工(內(nèi)層板黑膜氧化、去孔壁樹脂膩污、沉銅、電鍍、顯影、蝕刻、脫膜、絲印、熱風(fēng)整平等)過程。其中在脫模(剝膜)工序?yàn)榱嗣摮龔U舊電路板表面殘留焊錫,需用硝酸為氧化劑,氨基磺酸為穩(wěn)定劑,苯并三氮唑?yàn)殂~的緩蝕劑進(jìn)行操作,整個(gè)工序中會(huì)產(chǎn)生大量的剝離液,有機(jī)溶劑成分較大。 蘇州剝離液廠家現(xiàn)貨什么制程中需要使用剝離液。
能夠增強(qiáng)親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤(rùn)濕劑含有羥基,為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步說明,不應(yīng)理解為對(duì)本申請(qǐng)的限制。表一:兩種不同組分的剝離液配方一和配方二所采用的基礎(chǔ)組分基本相同,不同的是配方二中加入有潤(rùn)濕劑,上述所描述的潤(rùn)濕劑是用于增強(qiáng)親水性的,滴液與產(chǎn)品表面間的夾角為接觸角,接觸角可用來衡量潤(rùn)濕程度,水滴角測(cè)試儀可測(cè)量接觸角,從潤(rùn)濕角度考慮,接觸角<90°,且接觸角越小潤(rùn)濕效果越好加入潤(rùn)濕劑后的配方二所制得的剝離液,在滴落在高世代面板后,通過水滴角測(cè)試儀測(cè)接觸角,檢測(cè)圖如圖1所示,三次測(cè)試的接觸角如下表二:上述兩種不同組分的剝離液作接觸角測(cè)試接觸角配方一配方二測(cè)試一,加入潤(rùn)濕劑后的配方二所制得的剝離液,其滴落在高世代面板后,其接觸角比未加入潤(rùn)濕劑的配方一的剝離液潤(rùn)濕效果更好;請(qǐng)參閱圖2所示,將配方一所制得的剝離液以及配方二所制得的剝離液進(jìn)行光刻膠剝離,圖2中的陰影圓點(diǎn)為浸泡時(shí)間t1后光刻膠殘留,明顯地,可以看出配方二中t1時(shí)間后光刻膠殘留量小,而配方一中產(chǎn)品邊緣處光刻膠的殘留量大。
以往的光刻膠剝離液對(duì)金屬的腐蝕較大,可能進(jìn)入疊層內(nèi)部造成線路減薄,藥液殘留,影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此有必要開發(fā)一種不會(huì)對(duì)疊層晶圓產(chǎn)生過腐蝕的光刻膠剝離液。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,既具有較高的光刻膠剝離效率,又不會(huì)對(duì)晶圓內(nèi)層有很大的腐蝕。本發(fā)明通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)上述目的:一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,配方包括10~20wt%二甲基亞砜,10~20wt%一乙醇胺,5~11wt%四甲基氫氧化銨,~1wt%硫脲類緩蝕劑和~2wt%聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑,5~15wt%n-甲基吡咯烷酮和余量的去離子水。具體的。蘇州口碑好的剝離液公司。
所述卷邊輥與所述膠面收卷輥通過皮帶連接,所述收卷驅(qū)動(dòng)電機(jī)與所述膠面收卷輥通過導(dǎo)線連接。進(jìn)一步的,所述電加熱箱與所述干燥度感應(yīng)器通過導(dǎo)線連接,所述電氣控制箱與所述液晶操作面板通過導(dǎo)線連接。進(jìn)一步的,所述主支撐架由合金鋼壓制而成,厚度為5mm。進(jìn)一步的,所述干燥度感應(yīng)器與所述電氣控制箱通過導(dǎo)線連接。進(jìn)一步的,所述防濺射擋板共有兩塊,傾斜角度為45°。進(jìn)一步的,所述電氣控制箱與所述表面印刷結(jié)構(gòu)通過導(dǎo)線連接,所述電氣控制箱與所述膠面剝離結(jié)構(gòu)通過導(dǎo)線連接。本技術(shù)的有益效果在于:采用黏合方式對(duì)印刷品膠面印刷進(jìn)行剝離,同時(shí)能夠?qū)τ∷⑵纺z面進(jìn)行回收,節(jié)約了大量材料,降低了生產(chǎn)成本。質(zhì)量好的剝離液的公司聯(lián)系方式。南京格林達(dá)剝離液報(bào)價(jià)
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但現(xiàn)有的回收裝置普遍存在如下問題:剝離廢液利用水洗裝置水洗過濾出光刻膠樹脂成分,回收率低。為了解決這一問題,現(xiàn)有技術(shù)通常再向剝離廢液中加入沉淀劑繼續(xù)反應(yīng),而后沉淀過濾出光刻膠樹脂成分,但所得到的光刻膠樹脂成分品質(zhì)不宜再用于光刻膠原料,只能用于其他要求較低的樹脂需求場(chǎng)所。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的是為了提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置更為合理、使用方便可靠的光刻膠廢剝離液回收裝置,從根本上解決現(xiàn)有回收裝置回收率低的問題,同時(shí)分級(jí)回收輸出線性酚醛樹脂成分,分級(jí)儲(chǔ)存,以用于不同場(chǎng)合,物盡其用。為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種光刻膠廢剝離液回收裝置,包括攪拌釜和與攪拌釜連通的過濾罐,攪拌釜頂部設(shè)有廢剝離液投料口,其技術(shù)要點(diǎn)是:所述過濾罐的數(shù)量為兩個(gè),由一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐組成,所述一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐在垂直方向上位于攪拌釜下方,一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐的進(jìn)料管路分別與攪拌釜底部連通,且進(jìn)料管路上分別設(shè)有電磁閥,所述一級(jí)過濾罐的底部出液口連接有提升泵,所述提升泵的出料管路末端與攪拌釜頂部的循環(huán)料口連通,所述攪拌釜頂部另設(shè)有功能切換口。池州半導(dǎo)體剝離液推薦廠家