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浙江激光光刻膠感光膠

來源： 發(fā)布時間：2025-05-10

關鍵工藝流程

 涂布與前烘：

? 旋涂或噴涂負性膠，厚度可達1-100μm（遠厚于正性膠），前烘溫度60-90℃，去除溶劑并增強附著力。

 曝光：

? 光源以**汞燈G線（436nm）**為主，適用于≥1μm線寬，曝光能量較高（約200-500mJ/cm2），需注意掩膜版與膠膜的貼合精度。

 顯影：

? 使用有機溶劑顯影液（如二甲苯、醋酸丁酯），未曝光的未交聯(lián)膠膜溶解，曝光的交聯(lián)膠膜保留。

 后處理：

? 后烘（Post-Bake）：加熱（100-150℃）進一步固化交聯(lián)結構，提升耐干法蝕刻或濕法腐蝕的能力。

感光膠的工藝和應用。浙江激光光刻膠感光膠

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關鍵應用領域

半導體制造：

? 在晶圓表面涂覆光刻膠，通過掩膜曝光、顯影，刻蝕出晶體管、電路等納米級結構（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。

 印刷電路板（PCB）：

? 保護電路圖形或作為蝕刻抗蝕層，制作線路和焊盤。

 顯示面板（LCD/OLED）：

? 用于制備彩色濾光片、電極圖案等。

 微機電系統(tǒng)（MEMS）：

? 加工微結構（如傳感器、執(zhí)行器）。

工作原理（以正性膠為例）

1. 涂膠：在基材（如硅片）表面均勻旋涂光刻膠，烘干形成薄膜。

2. 曝光：通過掩膜版，用特定波長光線照射，曝光區(qū)域的光敏劑分解，使樹脂變得易溶于顯影液。

3. 顯影：用顯影液溶解曝光區(qū)域，留下未曝光的光刻膠圖案，作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層。

4. 后續(xù)工藝：刻蝕基材（保留未被光刻膠保護的區(qū)域），或去除光刻膠（剝離工藝）。
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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領域。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術資料。適用于厚板的光刻加工，在對精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產場景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領域。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學儀器、太陽能電池等領域的光刻工藝。品質保障、性能穩(wěn)定的特點，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷。

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為，吉田半導體打造環(huán)保光刻膠，助力電子產業(yè)低碳轉型。面對全球環(huán)保趨勢，吉田半導體推出無鹵無鉛錫膏與焊片，通過歐盟 RoHS 認證，焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方（<50g/L），符合歐盟 REACH 法規(guī)，生產過程中通過多級廢氣處理與水循環(huán)系統(tǒng)，實現(xiàn)零排放。公司嚴格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理，工業(yè)固廢循環(huán)利用率超 90%，為新能源汽車、光伏儲能等領域提供綠色材料解決方案，成為全球客戶信賴的環(huán)保材料供應商。LCD 光刻膠供應商哪家好?吉田半導體高分辨率 +低 VOC 配方!

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技術優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細分領域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，實現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器、光學器件等領域。
技術壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經驗，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術，部分原材料純度達PPT級。

 細分領域技術先進

? 納米壓印光刻膠：在納米級圖案化領域（如量子點顯示、生物芯片）實現(xiàn)技術突破，分辨率達3μm，填補國內空缺。

? LCD光刻膠：針對顯示面板行業(yè)需求，開發(fā)出高感光度、高對比度的光刻膠，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術性企業(yè)認證，與新材料領域同伴們合作開發(fā)半導體光刻膠，計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā)。
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半導體材料選吉田，歐盟認證，支持定制化解決方案!浙江激光光刻膠感光膠

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年；

水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g；

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準確性和穩(wěn)定性好；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g；

LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g；

半導體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g；

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100，重量 1L。 浙江激光光刻膠感光膠

標簽： 錫片 光刻膠