離子氮化是在真空中進行，因而可獲得無氧化的加工表面，也不會損害被處理工件的表面光潔度。而且由于是在低溫下進行處理，被處理工件的變形量極小，處理后無需再行加工。通過控制氣氛，可調節化合物層的相結構，化合物層的脆性明顯低于氣體氮化的脆性，離子氮化為工件的還有就是一道工序。離子氮化從380℃起即可進行氮化處理，此外，對鈦、鈦合金等特殊材料也可在850℃的高溫下進行氮化處理，因而適應范圍十分廣。離子氮化是在低氣壓下以離子注入的方式進行，因而耗氣量極少（只為氣體滲氮的百分之幾），可降低處理成本。離子氮化和氣體氮化有何區別。云浮高頻離子氮化性能

    離子氮化裝爐時零件間距如何控制？不同尺寸產品混裝，裝爐零件的間距過小會影響到零件的滲氮效果，如果過大會浪費裝爐空間。根據經驗，離子氮化零件在裝爐時零件之間的間距一般控制在20mm左右。如果零件較小，這個間距可以適當縮小，不過一般不要小于10mm。離子氮化不同零件拼爐時如何裝爐？在歐洲，自從1986年德國TEG公司(現歸屬德國PVA公司)的，熱壁式離子氮化爐已經獲得的應用。熱壁式離子氮化爐因其爐內溫度可以通過輔助熱源進行分區調控，使整爐的溫度均勻性得到了很大的提升，所以對于裝爐的要求降低了很多。對于熱壁爐而言，在裝爐方面需要注意的主要是比表面積（輝光表面積與產品重量的比值）相近的產品盡量裝在同一層，這樣可以進行良好的溫度調控。熱壁爐裝爐展示，離子滲氮以其變形小、節能省氣、綠色環保、低溫滲氮等優點在工模具、航空航天、船舶、石油和汽車等領域扮演著越來越重要的角色。 江門金屬離子氮化對比離子氮化都有哪些工藝？

離子氮化設備一般由電氣控制系統、真空爐體、滲劑氣體配氣系統、真空產生和維持系統、真空測量及控制系統等幾大部分組成。離子滲氮設備中重要的是電氣控制系統，根據控制系統電源種類的不同可分為直流電源（LD系列）和脈沖電源（LDMC系列）兩大類。大功率脈沖電源自上個世紀九十年代我所獨自研發成功以來，經過十多年的發展，發展到了第二代脈沖電源（PN-II），現已取代了直流電源，成為離子滲氮設備的優先電源。如果有離子氮化的需要，歡迎聯系。

    離子滲氮滲氮層的形成也是由分解、吸收、擴散三個基本過程組成的。但是，由于輝光放電的作用，其機理有所不同。在真空爐體內，工件接陰極，爐體接陽極，在陰陽極間施加數百伏的直流電壓，產生輝光放電，使含氮的稀薄氣體﹝如氨氣﹞電離，形成等離子體。N+、H+離子在陰極位降區被加速，轟擊陰極表面，使陰極表面活化，并發生一系列反應。首先，離子轟擊動能轉化為熱能，加熱工件。其次，離子轟擊打出電子，產生二次電子發射，同時，由于陰極濺射作用，工件表面的C、O、Fe等原子被轟擊出來，Fe與陰極附近的活性N原子﹝或N離子﹞結合形成FeN沉積在陰極表面，依次分解：FeN→Fe2N→Fe3N→Fe4N，并同時產生活性N原子，由于陰極由表及里的高N濃度差，活性N原子在一定溫度下，向心部擴散形成滲氮層。 離子氮化,它具有常規氮化的特點的同時還有許多其它的優點。

離子滲氮生過程中，如果工藝不當可能出現硬度偏低的情況。生產實踐中，工件滲氮后其表面硬度有時達不到工藝規定的要求，輕者可以返工，重者則造成報廢。造成硬度偏低的原因是多方面的：有設備方面的原因，如系統漏氣造成氧化；有選材方面的原因，如材料選擇不恰當；有前期熱處理方面的原因，如基本硬度太低，表面脫碳等；有工藝方面的原因，如滲氮溫度過高或過低，時間短或氮勢不足而造成滲層太薄等等。只有根據具體情況，找準原因，問題才會得以解決。球鐵曲軸的離子氮化工藝。東莞不銹鋼離子氮化廠家直銷

在相同的氨流量和氨壓下,進行離子氮化與氣體氮化的對比實驗,證明離子氮化比氣體氮化的效果好。云浮高頻離子氮化性能

離子氮化脈沖電源的優點：有利于深孔、窄縫、微孔的滲氮，由于脈沖電源對空心陰極效應的抑制作用，可在深孔、窄縫、微孔內實現氮化。例如可在型腔≥0.6mm的鋁型材擠壓模和Ф4×80（Ф32×1030）的深孔內實現氮化。節能，由于脈沖電源可有效地抑制空心陰極效應的產生，避免小孔、窄縫處打死弧，取消了堵孔等工序，省去了不必要的輔助工時，縮短了工藝周期，節省了大量的人力物力，提高了設備的綜合使用效率。此外脈沖電源中限流電阻的減小，也可節省部分能量，因此脈沖電源較直流電源更加節能。云浮高頻離子氮化性能

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