離子氮化設(shè)備一般由電氣控制系統(tǒng)、真空爐體、滲劑氣體配氣系統(tǒng)、真空產(chǎn)生和維持系統(tǒng)、真空測(cè)量及控制系統(tǒng)等幾大部分組成。離子滲氮設(shè)備中重要的是電氣控制系統(tǒng)，根據(jù)控制系統(tǒng)電源種類(lèi)的不同可分為直流電源（LD系列）和脈沖電源（LDMC系列）兩大類(lèi)。大功率脈沖電源自上個(gè)世紀(jì)九十年代我所獨(dú)自研發(fā)成功以來(lái)，經(jīng)過(guò)十多年的發(fā)展，發(fā)展到了第二代脈沖電源（PN-II），現(xiàn)已取代了直流電源，成為離子滲氮設(shè)備的優(yōu)先電源。如果有離子氮化的需要，歡迎聯(lián)系。離子氮化處理用什么材料硬度會(huì)高。梅州真空離子氮化溫度

離子氮化法具有以下一些優(yōu)點(diǎn)：由于離子氮化是在真空中進(jìn)行，因而可獲得無(wú)氧化的加工表面，也不會(huì)損害被處理工件的表面光潔度。而且由于是在低溫下進(jìn)行處理，被處理工件的變形量極小，處理后無(wú)需再行加工，極適合于成品的處理。通過(guò)調(diào)節(jié)氮、氫及其他（如碳、氧、硫等）氣氛的比例，可自由地調(diào)節(jié)化合物層的相組成，從而獲得預(yù)期的機(jī)械性能。離子氮化從380℃起即可進(jìn)行氮化處理，此外，對(duì)鈦等特殊材料也可在850℃的高溫下進(jìn)行氮化處理，因而適應(yīng)范圍十分廣。由于離子氮化是在低氣壓下以離子注入的方式進(jìn)行，因而耗氣量極少（只為氣體滲氮的百分之幾），可降低耗能。河源高頻離子氮化缺點(diǎn)金屬離子氮化注意事項(xiàng)。

    哪些零件不適合進(jìn)行離子氮化？由于離子氮化的過(guò)程是起輝電離放電的過(guò)程，所以一定要遵循基本的放電原理。當(dāng)陰極放電長(zhǎng)度小于小孔或窄縫尺寸的一半時(shí)，離子氮化才能夠正常進(jìn)行。而陰極放電長(zhǎng)度主要受氣壓、氣體組分、電壓等參數(shù)的影響，.小也就能控制到1mm左右，所以理論上通過(guò)起輝進(jìn)行氮化的小孔和窄縫的.小尺寸是2mm。同時(shí)，由于空心陰極效應(yīng)，當(dāng)小孔的孔徑比達(dá)到一定數(shù)值時(shí)，離子氮化的滲氮也無(wú)法正常進(jìn)行，因?yàn)樯羁變?nèi)起輝容易導(dǎo)致孔內(nèi)輝光疊加進(jìn)而引起工件表面超溫。另一方面，如果孔深過(guò)大，受陰陽(yáng)極距離的影響，孔內(nèi)的起輝難度會(huì)增大，導(dǎo)致工件溫度偏低。根據(jù)經(jīng)驗(yàn)，通孔的內(nèi)孔長(zhǎng)度與直徑的比值達(dá)到8時(shí)滲氮效果會(huì)變差，此時(shí)可以增加輔極來(lái)改善滲氮效果；通孔的內(nèi)孔長(zhǎng)度與直徑的比值達(dá)到16時(shí)滲氮會(huì)變得很困難，需要特殊方法才能實(shí)現(xiàn)。

    離子氮化處理工藝：處理溫度：閥板880～900。C，閥座840～860。C處理時(shí)間：6～8h比較大加熱速度：15℃/min比較大冷卻速度：18℃/min反應(yīng)氣氛：N2與H2混合氣體，并適當(dāng)引入其他氣體，如氧等氮?jiǎng)荩?6%～90%工作氣壓：3999～5332Pa氣體流量：100～150L/h電流密度：3～7mA/cm2擬進(jìn)行離子氮化的零件必須經(jīng)過(guò)徹底的清洗，以免因油污、銹斑、揮發(fā)物等而引起電弧，損傷零件。零件在裝爐時(shí)，其間隙必須足夠大而均勻，裝載過(guò)密處往往會(huì)引起溫度過(guò)高。對(duì)局部氮化的零件，可在非滲部位用外罩(對(duì)凸出面而言)或塞子(對(duì)內(nèi)凹面或孔而言)屏蔽，以避免在該處起輝。裝爐時(shí)還要注意合理地分布測(cè)溫監(jiān)控?zé)犭娕肌４送怆x子氮化技術(shù)主要儀器就是離子氮化爐，通過(guò)離子滲氮可以使?jié)B氮的周期縮短60%～70%，簡(jiǎn)化工序，零件變形小，產(chǎn)品質(zhì)量好，節(jié)約能源，無(wú)污染，是近年來(lái)發(fā)展較快的熱處理工藝。離子氮化設(shè)備由氮化爐、真空系統(tǒng)、供氮系統(tǒng)、電源及溫度測(cè)控系統(tǒng)組成。氮化介質(zhì)一般采用氨或氮?dú)浠旌蠚怏w。離子氮化操作要求嚴(yán)格，否則易導(dǎo)致溢度不均勻和弧光放電。離子氮化開(kāi)始于30年代，到50年代只用于炮管內(nèi)膛氮化。60年代推廣使用于結(jié)構(gòu)鋼、工模具鋼、球墨鑄鐵、合金鑄鐵、不銹鋼和耐熱鋼等。 離子氮化及其與氣體氮化的區(qū)別你真的了解了嗎?

    在以含氮?dú)怏w的低真空爐體內(nèi)的條件下，氣源通常采用純氨，也可采用分解氨。把金屬工件作為陰極爐體為陽(yáng)極，在陰極(工件)與陽(yáng)極(爐體)之間加上高壓(300～900V)直流電源后，稀薄氣體被電離并產(chǎn)生輝光放電，形成氮、氫陽(yáng)離子，在陰陽(yáng)極之間形成等離子區(qū)。在等離子區(qū)強(qiáng)電場(chǎng)作用下，氮和氫的正離子以高速向工件表面轟擊。離子的高動(dòng)能轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮埽訜峁ぜ砻嬷了铚囟取ｋx子氮化處理，歡迎聯(lián)系衡創(chuàng)。氮、氫等正離子在電場(chǎng)的加速下轟擊零件表面，產(chǎn)生很大熱量以加熱零件，同時(shí)使部分鐵原子濺射出來(lái)與氮結(jié)合生成FeN由于離子的轟擊，工件表面產(chǎn)生原子濺射，因而得到凈化，同時(shí)由于吸附和擴(kuò)散作用，繼而分解出活性氮原子向工件內(nèi)部擴(kuò)散而形成氮化層。其在工件表面形成滲氮層，主要有能量轉(zhuǎn)換、陰極濺射、凝附等具體過(guò)程的發(fā)生。 離子氮化工藝操作記錄。珠海高速鋼離子氮化硬度和深度

離子氮化和氣體氮化區(qū)別。梅州真空離子氮化溫度

    離子氮化與氣體氮化對(duì)比因其滲入理論與氣體氮化有一定差別，也有一定相同性，在操作上有一定的特殊性。二者都涉及到四要素，即工件表面潔凈度，氮化溫度，氨的分解率，滲氮保溫時(shí)間。但在以上相同四點(diǎn)的各點(diǎn)上，有一定的區(qū)別，而且因其特異性，在操作上有一些形式的不同，尤其防滲方法存在較大的不同。清洗工件，與氣體氮化大體相同，但對(duì)于工件交檢質(zhì)量不構(gòu)成威脅，如果清洗的好，可縮短打弧時(shí)間，反之只需延長(zhǎng)打弧時(shí)間，也可以維持工作。離子氮化溫度與氣體氮化溫度一樣，但其溫度測(cè)量至今尚為一道難題，即熱電偶很難與工件匹配，其顯示值也不能完全一致，只可作參考，所以目測(cè)觀測(cè)溫度甚為重要。離子氮化也需要足夠的氮原子，但因其獨(dú)特的電離能力，極少的氮原子即可滿足氮化需要。所以一次工作保溫階段有1kg氨氣即可滿足工作需要。其氮原子是否足夠工作需要，可視爐內(nèi)氣體被電離后所發(fā)出的輝光厚度及顏色來(lái)進(jìn)行判斷。正常工作時(shí)輝光發(fā)出淡藍(lán)色微光，輝光厚度保持在，發(fā)黃發(fā)亮，輝光厚度超過(guò)3mm，則為氨氣供給量太少；輝光暗淡發(fā)黑厚度小于2mm，則為氨氣供給太多。 梅州真空離子氮化溫度

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