一、設備詳細需求：1.產品尺寸：比較高350mm2.控制功能：按原有控制實現功能二、尺寸：內部尺寸W800*L15000*H450mm外部尺寸W1200*L15000*H1500mm（約）二.溫度范圍:1.最高溫度：250℃2.使用溫度：210℃三．機器精度:儀表控制精度:±0.3全刻度.（溫度分布均勻度:210℃±5℃.(空爐測量恒溫段有效區域內為準)四.機械板金結構：1.內部材質：鍍鋅板.2.外部材質:粉體烤漆。3.保溫材質:高溫耐熱巖棉(最高耐溫700℃)。4.烘干爐設有排氣系統，及時將爐內廢氣排出爐外，可調節大小。5.定制耐熱氣動元器件，蘇州熱風循環工業烤箱維修。五.加熱系統:1.采用燃氣5萬大卡燃燒機，蘇州熱風循環工業烤箱維修，均布式平面布局，保證均溫性.2，蘇州熱風循環工業烤箱維修.完全**系統，不影響控制線路.高精密隧道爐方案說明。蘇州熱風循環工業烤箱維修
八.選材要求:選材品牌參照招標文件中品牌要求和投標文件中主要外購件清單序號名稱類別制造商序號名稱類別制造商1變頻器臺達/三菱18訊響器中國臺灣2接觸器及熱保護開關施耐德19線材無錫南亞電纜3空氣開關正泰/德力西20觸摸屏威綸/三菱4光電開關OMRON/同等品牌21驅動電機及減速器歐邦/同等品牌5繼電器及座OMRON22鏈條環球/匯利興6微動開關OMRON23止擋器亞德客/同等品牌7行程開關OMRON24氣動組件亞德客/同等品牌8可編程控制器三菱/OMRON25電磁閥亞德客/同等品牌9可編程控制器擴展三菱/OMRON26氣缸亞德客/同等品牌10馬達開關正泰/德力西27吸盤SMC/同等品牌11斷路器正泰/德力西28電源插座飛雕12漏電保護附件OMRON29饋電子國產質量13按鈕開關天逸30主線鋁型材國產質量電泳處理14轉換開關天逸3115急停開關天逸3216指示燈天逸3317直流電源明緯34太倉無氧化工業烤箱市場雙門精密送風循環烤箱。
1)外殼SUS304不銹鋼材質，內膽316L不銹鋼材料；采用不銹鋼加熱管，加熱管4個，總功率2650W,均勻分布在內膽外壁，上下左右四面加熱，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置；采用鋼化、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內物品實驗情況。無發塵材料，適用百級光刻間凈化環境使用。2)箱門閉合松緊能調節，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內保持高真空度。3)溫度采用微電腦PID控制,系統具有自動控溫,定時,超溫報警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鈕,簡單易用,性能穩定可靠.4)智能化觸摸屏控制系統配套PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。5)HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，使真空箱密封性能極好，確保HMDS氣體無外漏顧慮。
一、設備名稱：86寸老化烤箱二、設備型號：TSP202012ZA006-2三、設備用途：電子元件，電子玻璃等老化測試。五、溫度要求：5．1熱間有效范圍內，溫控的控制精度正負5度，均溫性±5℃。5．2正常使用45度，比較大溫度60度。六、設備能力:溫度到計時，時間到報警。七、七、設備工作原理及組成描述：7.1工作原理：運用大功率加熱器將空氣加熱，升溫到設定溫度后自動保溫計時，時間到報警提示。7.2設備組成：TSP202012ZA00686寸老化爐一臺。八、工藝流程8.1加熱流程1上料→2關門密封→3加熱升溫→4溫度到計時保溫→5保溫時間到報警→6斷電降溫→7開門下料九、設備參數9-1.老化工件：名稱:電子元件，電子玻璃，電子陶瓷材料9-2.設備要求：設備電源:380V±10%/50Hz三相五線（接地接零）VC均熱板加壓擴散焊接爐。
二、進出氣口裝置2.爐體出風風路：耐高溫不銹鋼板3.進出氣口：進氣口在后部，口徑50mm，出氣口在上部，口徑50mm，可調整入氣大小三、精度1.溫度范圍：最高溫度300℃2.溫度均勻度：±3℃（空箱恒溫測試）四、溫控系統1.加熱器材質：采用質量電加熱器，3KW；有電阻率高、使用溫度高、使用壽命長的特點，完全**系統，不影響控制線路2.溫度控制器：臺順電腦自動演算單段式控制器+SSR固態繼電器*1組,溫度傳感器采用KTYPE，精確有保證。3.定時器、恒溫定時器：在0-99h（m）范圍內，爐內溫度達到設定點時即開始計時，當烘烤時間到達設定時間時自動關閉加熱系統，有計時蜂鳴報警五、電源裝置1.電壓：380V，50Hz三相5線2.功率/電流：3.5KW（7A）3.電氣組件：主要電器采用中國臺灣臺安和中國臺灣天得，日本歐姆龍中間繼電器4.電源引線：2.5米推板式氣氛燒結爐 2. 用 途 銅金屬基材熱導管燒結、退火熱處理用。吳中區無塵工業烤箱價錢
精密送風循環固化爐。蘇州熱風循環工業烤箱維修
首先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為：打開真空泵抽真空，待腔內真空度達到某一高真空度后，開始充入氮氣，充到某低真空度后，再次進行抽真空、充入氮氣的過程，到達設定的充入氮氣次數后，開始保持一段時間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空，充入HMDS氣體，在到達設定時間后，停止充入HMDS藥液，進入保持階段，使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空。充入氮氣，完成整個作業過程。HMDS與硅片反應機理如圖：首先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應，在硅片表面生成硅醚，消除氫鍵作，從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應。蘇州熱風循環工業烤箱維修
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