半導體滾鍍設備

是一種于半導體制造中金屬化工藝的精密設備，主要用于在半導體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學或化學鍍工藝，實現高精度、高一致性的金屬覆蓋，滿足集成電路封裝、先進封裝及微機電系統等領域的特定需求

與傳統滾鍍不同，半導體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導體材料的兼容性。

二、功能

1.金屬互連：在晶圓上形成銅導線。

2.凸塊制備：沉積錫、銅、金等材料，用于芯片與基板的電氣連接。

3.阻擋層/種子層鍍覆：鍍鈦、鉭等材料，防止金屬擴散并增強附著力。

三、設備組成

1.電鍍槽：

材質：耐腐蝕材料，避免污染鍍液

鍍液循環系統：維持鍍液成分均勻，過濾顆粒雜質

2.旋轉載具：

晶圓固定裝置：真空吸附或機械夾持，確保晶圓平穩旋轉

轉速控制：通過伺服電機調節轉速，優化鍍層均勻性

3.陽極系統：

可溶性/不溶性陽極：銅、鉑等材料，依鍍層需求選擇

陽極位置調節：控制電場分布，減少邊緣效應

4.供液與噴淋系統：

多點噴淋頭：均勻分配鍍液至晶圓表面，避免氣泡滯留

流量控制：精確調節鍍液流速，匹配不同工藝需求

5.控制系統：

PLC/工控機：集成溫度、pH值、電流密度等參數監測與反饋。

配方管理：存儲不同鍍層的工藝參數 鍍鉻設備配置鉛銻合金陽極與陽極袋，過濾陽極泥渣，防止雜質污染鍍液，維持硬鉻鍍層高硬度。手動電鍍設備價格

龍門自動線的特點

高精度定位

伺服系統+光柵尺反饋，確保工件浸鍍位置誤差＜1mm適用于精密電子接插件、汽車精密部件等對鍍層均勻性要求高的場景（厚度偏差±3-5%）。

多工藝兼容性

可集成除油、酸洗、電鍍、鈍化、烘干等20+工序支持掛鍍、滾鍍（通過可切換掛具）混合生產

柔性化生產

通過編程快速切換工件類型（換型時間＜30分鐘）支持小批量多品種（如同時處理10種不同規格螺栓）

穩定性強

故障率＜0.5%（關鍵部件如電機、傳感器采用工業級防護）連續運行壽命＞10萬小時

典型應用

行業                                        應用案例                                          工藝要求                                            汽車制造                  發動機支架鍍鋅、輪轂鍍鉻                     耐鹽霧＞720小時，厚度10-15μm

電子行業                  手機接口鍍金、PCB接插件鍍鎳 鍍層         孔隙率＜5個/cm2                                          五金                   衛浴鍍銅鎳鉻三鍍層                        表面粗糙度Ra＜0.2μm 貴州龍門電鍍設備滾鍍設備采用帶孔滾筒裝載小工件，旋轉翻滾中完成電鍍，高效處理螺絲、電子元件等批量小件。

電鍍設備的組成

1.電解電源系統

提供穩定直流電，通常采用高頻開關電源或硅整流器，電壓范圍0-24V，電流可調至數千安培，滿足不同鍍種需求。

2.電解槽體結構

耐腐蝕材質槽體（如PP/CPVC/PVDF），尺寸設計依據生產需求，典型容積0.5-10m3，配置防滲漏雙層結構。

3.電極系統

陽極組件：可溶性金屬（如鎳板）或不溶性陽極（鈦籃+金屬球），配置陽極袋防止雜質擴散

陰極掛具：定制化設計，確保工件均勻受鍍，接觸電阻＜0.1Ω

4.工藝控制系統

溫控精度±1℃，流量控制誤差＜5%

在線pH監測（±0.1精度）

安培小時計控制鍍層厚度

設備分類與技術參數

類型                    適用場景                  產能(㎡/h)              厚度均勻性                 典型配置

掛鍍線                精密零部件                   0.5-2                     ±5%                    多工位龍門架，PLC控制        滾鍍系統            小件批量處理                  3-8                      ±15%                    六角滾筒，變頻驅動          連續電鍍線           帶材/線材                     10-30                     ±8%                    張力控制+多槽串聯          選擇性電鍍             局部強化                   0.1-0.5                   ±3%                   數控噴射裝置，微區控制

半導體滾鍍與傳統滾鍍的區別：

 對比項                              傳統滾鍍                                          半導體滾鍍                                                對象                     小型金屬零件（螺絲、紐扣等）               晶圓、芯片、微型半導體元件                               精度                               微米級                                             納米級（≤100nm）                                       潔凈度                          普通工業環境                                         無塵室（Class100~1000）                         工藝控制                    電流/時間粗調                                       實時閉環控制（電流、流量、溫度）               鍍液類型                      酸性/堿性鍍液                                      高純度鍍液（低雜質）

發展趨勢：

大尺寸晶圓兼容：適配12英寸（300mm）晶圓，向18英寸過渡。環保鍍液：無物、低毒配方，減少廢水處理壓力。智能化集成：AI工藝優化：通過機器學習預測鍍層缺陷。與CMP（化學機械拋光）、PVD設備聯動，形成全自動金屬化產線

總結：

半導體滾鍍設備是封裝與芯片制造的關鍵裝備，通過精密旋轉與鍍液控制，實現納米級金屬鍍層的均勻沉積。其技術在于潔凈環境下的高精度工藝控制 廢水處理設備分類收集含鉻、鎳等廢水，經化學沉淀、離子交換處理，確保重金屬達標排放。

半導體掛鍍設備

1.基本原理與結構

掛鍍工藝：晶圓固定在掛具上，浸入電鍍液，通過精細控制電流、電壓及溶液成分，在表面沉積均勻金屬層。

組件：

電鍍槽：耐腐蝕材質，配備溫控、循環過濾系統，維持鍍液均勻性

掛具與陽極：鈦或鉑金陽極，掛具設計適配晶圓尺寸，確保電場分布均勻

自動化傳輸：機械臂自動上下料，減少人工污染風險

控制系統：PLC/計算機實時調控電流密度、電鍍時間、pH值等參數

2. 關鍵技術優勢

高均勻性：通過脈沖電鍍或水平電鍍技術（如ECP），減少邊緣效應，實現亞微米級鍍層均勻性

低缺陷率：鍍液雜質控制（＜0.1ppm）與膜厚在線監測，降低孔洞、結節等缺陷

高產能：支持多晶圓并行處理

3. 典型應用場景

芯片制造：

銅互連：在邏輯芯片中沉積多層銅導線，替代傳統鋁工藝以降低電阻

TSV填充：為3D封裝提供垂直導電通道，實現芯片堆疊

先進封裝：

凸塊電鍍：在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊，用于Flip-Chip鍵合

RDL（重布線層）：沉積銅層實現芯片I/O端口的重新布局

總結

半導體掛鍍設備通過精密電化學控制與自動化技術，解決了納米級金屬沉積的均勻性與可靠性難題，是先進芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關聯芯片的導電性、散熱及良率 自動化電鍍線的機器人上下料系統，通過視覺識別定位工件，實現高精度無人化操作。廣東微型電鍍設備

連續鍍生產線的導電輥鍍覆耐磨碳鎢涂層，降低鋼帶傳輸摩擦，避免劃傷與鍍層缺陷。手動電鍍設備價格

電鍍周邊設備有哪些？

1.鍍槽：是電鍍加工的設備，用于盛放電鍍液，為電鍍提供反應場所。根據電鍍工藝和工件的不同，鍍槽的材質、形狀和尺寸也各不相同，常見的有聚丙烯、聚四氟乙烯等材質制成的鍍槽。

2.整流器：其作用是將交流電轉換為直流電，為電鍍過程提供穩定的電流。電鍍過程需要精確控制電流的大小和穩定性，以確保電鍍層的質量和性能。

3.過濾機：用于過濾電鍍液中的雜質、顆粒和懸浮物，保持電鍍液的清潔度。過濾機通常采用濾芯式或濾袋式過濾，可根據電鍍液的性質和過濾精度要求選擇不同的過濾材料。

4.加熱和冷卻裝置：加熱裝置通常采用電加熱或蒸汽加熱的方式，而冷卻裝置則多采用冷水機或冷卻塔進行冷卻。

5.攪拌設備：包括機械攪拌和空氣攪拌等方式。

6.掛具：用于懸掛和固定待電鍍的工件，使工件能夠在電鍍槽中與電鍍液充分接觸，并保證電流均勻地通過工件。7.行車：主要用于在電鍍車間內吊運工件、原材料和成品等重物。

8.廢氣處理設備：電鍍過程中會產生各種有害氣體，如酸霧、堿霧和重金屬廢氣等。廢氣處理設備通常采用噴淋塔、活性炭吸附裝置、催化燃燒裝置等，對廢氣進行凈化處理，達標后排放。 手動電鍍設備價格