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在三氯氧磷擴散過程中,如何控制擴散的均勻性??

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賽瑞達智能電子裝備(無錫)有限公司2025-03-09

控制擴散均勻性至關重要。首先,要確保擴散爐內溫度分布均勻,這需要高質量的加熱元件和精細的溫度控制系統,使爐內各位置溫度偏差控制在極小范圍內。其次,POCl?蒸汽在爐內的分布均勻性很關鍵。通過合理設計氣體輸送管道和流量控制系統,讓攜帶 POCl?蒸汽的氣體能均勻地覆蓋硅片表面。此外,硅片在爐內的放置方式也有影響,一般采用專門設計的載具,保證硅片之間的間距均勻,避免相互遮擋,使每個硅片都能在相同的環境下進行擴散反應,從而保證擴散的均勻性。?

賽瑞達智能電子裝備(無錫)有限公司
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簡介:賽瑞達成立于2021年,專注于半導體設備的研發、生產與銷售。公司位于無錫,致力于提供定制化解決方案。
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賽瑞達致力于成為半導體裝備的主導品牌。
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