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安徽阻焊光刻膠感光膠

來源: 發布時間:2025-05-30

光刻膠系列

厚板光刻膠 JT - 3001,具備優異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,符合歐盟 ROHS 標準,保質期 1 年;

水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L;SU - 3 負性光刻膠,分辨率優異,對比度良好,曝光靈敏度高,光源適應,重量 100g;

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000,有 1L 裝和 100g 裝兩種規格,分辨率高,準確性和穩定性好;

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,耐強酸強堿,耐高溫達 250°C,長期可靠性高,粘接強度高,重量 100g;

LCD 正性光刻膠 YK - 200,具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力,重量 100g;

半導體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g;

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,重量 1L。 PCB廠商必看!這款G-line光刻膠讓生產成本直降30%。安徽阻焊光刻膠感光膠

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主要應用場景

 印刷電路板(PCB):

? 通孔/線路加工:負性膠厚度可達20-50μm,耐堿性蝕刻液(如氯化鐵、堿性氯化銅),適合制作大尺寸線路(線寬/線距≥50μm),如雙面板、多層板的外層電路。

? 阻焊層:作為絕緣保護層,覆蓋非焊盤區域,需厚膠(50-100μm)和高耐焊接溫度(260℃以上),負性膠因工藝簡單、成本低而廣泛應用。

 微機電系統(MEMS):

? 深硅蝕刻(DRIE):負性膠作為蝕刻掩膜,厚度可達100μm以上,耐SF?等強腐蝕性氣體,用于制作加速度計、陀螺儀的高深寬比結構(深寬比>20:1)。

? 模具制造:在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具,利用負性膠的厚膠成型能力。

 平板顯示(LCD):

? 彩色濾光片(CF)基板預處理:在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層,耐濕法蝕刻(如HF溶液),確保后續RGB色阻層的精確涂布。

 功率半導體與分立器件:

? IGBT、MOSFET的隔離區蝕刻:負性膠用于制作較寬的隔離溝槽(寬度>10μm),耐高濃度酸堿蝕刻,降低工藝成本。
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行業地位與競爭格局

1. 國際對比

? 技術定位:聚焦細分市場(如納米壓印、LCD),而國際巨頭(如JSR、東京應化)主導半導體光刻膠(ArF、EUV)。

? 成本優勢:原材料自主化率超80%,成本低20%;國際巨頭依賴進口原材料,成本較高。

? 客戶響應:48小時內提供定制化解決方案,認證周期為國際巨頭的1/5。

2. 國內競爭
國內光刻膠市場仍由日本企業壟斷(全球市占率超60%),但吉田在納米壓印、LCD光刻膠等領域具備替代進口的潛力。與南大光電、晶瑞電材等企業相比,吉田在細分市場的技術積累更深厚,但ArF、EUV光刻膠仍需突破。

風險與挑戰

 技術瓶頸:ArF、EUV光刻膠仍依賴進口,研發投入不足國際巨頭的1/10。

 客戶認證周期:半導體光刻膠需2-3年驗證,吉田尚未進入主流晶圓廠供應鏈。

 供應鏈風險:部分樹脂(如ArF用含氟樹脂)依賴日本住友電木。

 行業競爭加劇:國內企業如南大光電、晶瑞電材加速技術突破,可能擠壓吉田的市場份額。

LCD顯示

? 彩色濾光片(CF):

? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,線寬精度±2μm,透光率<0.1%。

? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍像素,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性。

? 陣列基板(Array):

? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,分辨率≤3μm。

 OLED顯示(柔性/剛性)

? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機發光材料的 confinement 結構,線寬精度±1μm,需耐溶劑侵蝕(適應蒸鍍工藝)。

? 觸控電極(如ITO/PET):通過光刻膠圖形化實現透明導電線路,線寬≤5μm。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉移前的芯片制備:使用高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)定義微米級LED陣列,良率要求>99.99%。
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國際標準與客戶認證
公司通過ISO9001、ISO14001等認證,并嚴格執行8S現場管理,生產環境潔凈度達Class 10級。其光刻膠產品已通過京東方、TCL華星的供應商認證,在顯示面板領域的市占率約5%,成為本土企業中少數能與日本JSR、德國默克競爭的廠商。

全流程可追溯體系
吉田半導體建立了從原材料入庫到成品出庫的全流程追溯系統,關鍵批次數據(如樹脂分子量分布、光敏劑純度)實時上傳云端,確保產品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規級芯片等對可靠性要求極高的領域獲得突破,2023年車用光刻膠銷售額同比增長120%。
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嚴苛光刻膠標準品質,吉田半導體綠色制造創新趨勢。安徽阻焊光刻膠感光膠

作為東莞松山湖的企業,吉田半導體深耕光刻膠領域 23 年,成功研發出 YK-300 半導體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,良率達 98% 以上,已通過中芯國際等晶圓廠驗證;JT-2000 突破耐高溫極限,在 250℃復雜環境下仍保持圖形穩定性,適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進口原材料與全自動化生產工藝,產品通過 ISO9001 認證及歐盟 RoHS 標準,遠銷全球并與跨國企業建立長期合作,加速國產替代進程。安徽阻焊光刻膠感光膠

標簽: 錫片 光刻膠