在執行晶圓的前、后段工藝過程時，晶圓需要經過無數次的IC清潔劑清洗步驟，其次數取決于晶圓的設計和互連的層數。此外，由于清洗工藝過程要剝離晶圓表面的光刻膠，同時還必須去除復雜的腐蝕殘余物質，金屬顆粒以及其他污染物等，所以清洗過程是及其復雜的過程。清洗介質的選擇從濕法清洗的實踐中，越來越多出現難于解決的問題時，迫使科技人員探索和尋找替代的技術，除了如增加超聲頻率（采用MHz技術）等補救方法之外，選擇的途徑就是選擇氣相清洗技術來替代（熱氧化法、等離子清洗法等）。IC封裝藥水對表面的深層頑固污漬的去除有效果。蘇州IC封裝表面處理液廠家直銷價

IC封裝藥液具有剝鎳鍍層功能，有機封閉劑：屬于干性防銹/防變色劑，適用于等產品后防變色，防腐蝕處理。環保，無鉻，符合國家檢測標準。防變色劑又稱防腐蝕劑，IC除銹劑。封閉劑：是通過化學品與金屬之間發生的一種物理反應，使其金屬表面轉化成不易被氧化的狀態，延長金屬使用壽命的方法。封閉的原理：可用薄膜理論來解釋，即認為封閉是由于金屬與氧化性質作用，作用時在金屬表面生成一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的、牢固地吸附在金屬表面上的物理膜。這層膜成單獨相存在，通常是氧化金屬的化合物。南京IC封裝表面處理液供應信息IC封裝藥水使金屬基本停止溶解形成鈍態達到防腐蝕的作用。

半水清洗主要采用有機溶劑和去離子水，再加上一定量的活性劑、添加劑所組成的清洗劑。該類清洗介于溶劑清洗和水清洗之間。這些IC清潔劑都屬于有機溶劑，屬于可燃性溶劑，閃點比較高，毒性比較低，使用上比較安全，但是須用水進行漂洗，然后進行烘干。有些清洗劑中添加5%~20%的水和少量表面活性劑，既降低了可燃性，又可使漂洗更為容易。半水清洗工藝特點是：清洗能力比較強，能同時除去極性污染物和非極性污染物，洗凈能力持久性較強；清洗和漂洗使用兩種不同性質的介質，漂洗一般采用純水，漂洗后要進行干燥。

因此在制作過程中除了要排除外界的污染源外，集成電路制造步驟如高溫擴散、離子植入前等均需要進行濕法清洗或干法清洗工作。干、濕法清洗工作是在不破壞晶圓表面特性及電特性的前提下，有效地使用化學溶液或氣體去除殘留在晶圓上之微塵、金屬離子及有機物之雜質。污染物雜質的分類：IC制程中需要一些有機物和無機物參與完成，另外，制作過程總是在人的參與下在凈化室中進行，這樣就不可避免的產生各種環境對硅片污染的情況發生。根據污染物發生的情況，大致可將污染物分為顆粒、有機物、金屬污染物及氧化物。IC封裝藥水通過各種腐蝕測試，具有很強的防銀變色效果。

IC封裝藥液拆膠液切勿觸及眼睛、皮膚，如不慎接觸可用水清洗。用畢及時封好瓶蓋，以免液體揮發比例失調影響效果，瓶內液體會產生氣體，小心開啟，低溫避光保存。是一種單組份高性能混合溶劑，能有效脫除環氧樹脂、酚醛樹脂、丙烯酸樹脂、聚丁二烯、三聚氰胺等聚合物為基礎的膠層和經環氧樹脂膠粘接、灌封并固化的零件。揮發快，溶解及清潔力優良。對金屬無損傷、但對塑膠有輕微腐蝕性。用于首飾、標牌、電子、電器各種產品零件返修不良品之用并可清潔相關工具。STM-C160除銹活化劑，單劑操作，配比濃度20-40%。南京IC封裝表面處理液供應信息

由多種進口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對去除切割工藝的膠粘合劑特別研制。蘇州IC封裝表面處理液廠家直銷價

IC封裝藥液清潔ACF用，對已上溫并硬化的TYPE上的MELAMINE，URETHANE都可以膨脹分離。特別是對HITACHI。SONY的ACF有良好的除去效果。去除能力強，并且效果好無揮發性，容易保存無刺激性氣味。半導體IC制程主要以20世紀50年代以后發明的四項基礎工藝(離子注入、擴散、外延生長及光刻)為基礎逐漸發展起來，由于集成電路內各元件及連線相當微細，因此制造過程中，如果遭到塵粒、金屬的污染，很容易造成晶片內電路功能的損壞，形成短路或斷路等，導致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。蘇州IC封裝表面處理液廠家直銷價

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