IC封裝藥液清潔ACF用，對已上溫并硬化的TYPE上的MELAMINE，URETHANE都可以膨脹分離。特別是對HITACHI。SONY的ACF有良好的除去效果。去除能力強，并且效果好無揮發性，容易保存無刺激性氣味。半導體IC制程主要以20世紀50年代以后發明的四項基礎工藝(離子注入、擴散、外延生長及光刻)為基礎逐漸發展起來，由于集成電路內各元件及連線相當微細，因此制造過程中，如果遭到塵粒、金屬的污染，很容易造成晶片內電路功能的損壞，形成短路或斷路等，導致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。由多種進口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對去除切割工藝的膠粘合劑特別研制。IC封裝藥水供應公司

因此在制作過程中除了要排除外界的污染源外，集成電路制造步驟如高溫擴散、離子植入前等均需要進行濕法清洗或干法清洗工作。干、濕法清洗工作是在不破壞晶圓表面特性及電特性的前提下，有效地使用化學溶液或氣體去除殘留在晶圓上之微塵、金屬離子及有機物之雜質。污染物雜質的分類：IC制程中需要一些有機物和無機物參與完成，另外，制作過程總是在人的參與下在凈化室中進行，這樣就不可避免的產生各種環境對硅片污染的情況發生。根據污染物發生的情況，大致可將污染物分為顆粒、有機物、金屬污染物及氧化物。IC封裝藥水供應公司IC封裝藥水不影響鍍層的導電性、可焊性，保持鍍層外觀潔白光亮。

使用IC除銹劑時應注意些什么？IC除銹劑的儲存，請放在陰涼處，并置于兒童接觸不到的地方。表面處理后會伴隨一層鈍化膜，厚度約為1微米，是一種由無機酸制成的產品與鋼鐵IC除銹劑的反應，可起到鋼的保護作用。IC除銹劑使用一段時間后應浮在泡沫表面并及時沉淀，并進行濃度試驗和分析，以補充IC除銹劑，保證清潔效果(見濃度控制方法)。加工工件整齊分離，以方便干燥。請將工件干燥或干燥，不要用水沖洗。噴漆或防銹油在工作后盡快。如果要達到好的效果，可以選擇使用公司強大的生產清潔防銹油。

IC清潔劑作溶劑可作各種反應溶媒，潤滑劑稀釋劑等。特點：無色、無味、無毒、不燃燒，ODP值為零；表面張力低、黏度小、蒸發潛熱小。用途：特殊用途的溶劑、清洗劑、漂洗劑、無水流體、去焊劑和熱傳遞介質，主要用于電子儀表和激光盤片的清洗，顆粒雜物的去除，光學系統及精密場合下清洗。優點：由于性能接近CFCs，可使用原有清洗設備，不需要增加設備投資，也不需要對工藝做大的改變。一定環保，安全。使用范圍：電子元件側漏液，電子零部件（IC，LSI部件）或者電子裝置的氣密性測試。IC封裝藥水通過各種腐蝕測試，具有很強的防銀變色效果。

IC封裝藥液顆粒主要是一些聚合物、光致抗蝕劑和蝕刻雜質等。通常顆粒粘附在硅表面，影響下一工序幾何特征的形成及電特性。根據顆粒與表面的粘附情況分析，其粘附力雖然表現出多樣化，但主要是范德瓦爾斯吸引力，所以對顆粒的去除方法主要以物理或化學的方法對顆粒進行底切，逐漸減小顆粒與硅表面的接觸面積，終將其去除。有機物雜質在IC制程中以多種形式存在，如人的皮膚油脂、凈化室空氣、機械油、硅樹脂真空脂、光致抗蝕劑、清洗溶劑等。每種污染物對IC制程都有不同程度的影響，通常在晶片表面形成有機物薄膜阻止清洗液到達晶片表面。IC封裝藥水能夠鎖住金屬表面顏色。電子元件清洗劑哪里有銷售

IC封裝藥水與硅酸鹽相比，本劑具有好于硅酸鹽五倍以上的防腐蝕效果。IC封裝藥水供應公司

半水清洗主要采用有機溶劑和去離子水，再加上一定量的活性劑、添加劑所組成的清洗劑。該類清洗介于溶劑清洗和水清洗之間。這些IC清潔劑都屬于有機溶劑，屬于可燃性溶劑，閃點比較高，毒性比較低，使用上比較安全，但是須用水進行漂洗，然后進行烘干。有些清洗劑中添加5%~20%的水和少量表面活性劑，既降低了可燃性，又可使漂洗更為容易。半水清洗工藝特點是：清洗能力比較強，能同時除去極性污染物和非極性污染物，洗凈能力持久性較強；清洗和漂洗使用兩種不同性質的介質，漂洗一般采用純水，漂洗后要進行干燥。IC封裝藥水供應公司

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