IC除銹劑中鹽酸可以清洗表面，提高酸洗效果，增快酸洗速度。該IC除銹劑在循環使用時，為進一步提高除銹速度、消除氣味，可加入檸檬酸、鹽酸配成的活化劑。檸檬酸可中和鐵離子。鹽酸可增加酸的能量。制備方法：先將有機酸、糊精、鉬酸鈉、磷酸和水放入混合罐內室溫下勻速攪拌30min。然后在混合溶液中加入甘油，室溫下勻速攪拌10min，攪拌轉速為25r/min。接著在混合溶液中加入添加劑SI一1，室溫下勻速攪拌30min，攪拌轉速為25r/min。得到環保IC除銹劑。防變色劑一般分為兩種：一種為有機封閉劑，一種為油性封閉劑。南京IC封裝藥水廠家供貨

在IC除銹劑涂抹完20分鐘時間里，必須保證生銹的表面盡量的濕潤，如果效果不好，可以用IC除銹劑進行反復的擦拭；在擦拭完畢后，用清水沖洗表面，盡量是使用熱水，這樣可以讓表面更快的干燥，同時還可以預防生銹。浸泡槽除銹法：在浸泡槽里水和IC除銹劑按照5比1的比例進行調和；除銹的溫度保持常溫即可，如果有條件可以將IC除銹劑進行加溫，加溫至上限70攝氏度即可；銹蝕的物體放在浸泡槽內浸泡的時間不能超過三個小時；浸泡完畢后，用清水沖洗表面，盡量是使用熱水，這樣可以讓表面更快的干燥，同時還可以預防生銹。無錫IC除銹活化液供貨企業IC封裝藥水有機封閉劑：閃點高（110度），可水溶性，不易燃燒，使用安全，環保，無鉻，無排放。

硅晶圓經過SC-1和SC-2溶液清洗后，由于雙氧水的強氧化力，在晶圓表面上會生成一層化學氧化層。為了確保閘極氧化層的品質，此表面氧化層必須在晶圓清洗過后加以去除。另外，在IC制程中采用化學汽相沉積法(CVD)沉積的氮化硅、二氧化硅等氧化物也要在相應的清洗過程中有選擇的去除。化學清洗是利用各種化學試劑和有機溶劑去除附著在物體表面上的雜質的方法。在半導體行業，化學清洗是指去除吸附在半導體、金屬材料以及用具表面上的各種有害雜質或油污的工藝過程。

IC封裝藥液由于連續處理過程中濃度不斷變化，要定期測定PH值，確定IC-502清洗劑含量濃度，保持在規定的濃度范圍內，及時補充添加，以確保清洗效果。工件油污清洗干凈后用清水沖洗，水洗后的工件再做后續處理。工件如需防銹，油污清洗干凈后直接烘干，不需要水洗，用水沖洗會影響防銹效果。定期清理脫脂槽，定期倒槽排渣。IC芯片容易生銹，不但影響外觀質量，還會影響噴漆、粘接等工藝的正常進行，如不及時處理，更會造成材料的報廢，導致不必要的經濟損失。IC封裝藥水可用水調節粘度，使用安全方便，經濟使用。

IC封裝藥液適當使用，可有效的減少生產中的不良品。使用時將脫膠劑倒入容器中，然后在脫膠劑中加一厘米厚水封面用于防火防揮發。將需去除膠層的零件完全浸泡于脫膠劑中，因膠層厚薄不同，約數分鐘或幾十分鐘不等，膠層和粘接灌封膠料會自動全部脫除。脫除后用水沖洗干凈即可。脫膠劑使用后可用過濾網將脫下的樹脂濾凈，可繼續使用多次。涂刷對于大件不便浸泡的物件，可用毛刷涂于需脫除的膠層部件，幾分鐘或幾十分鐘后膠膜鼓起脫落后將其洗干凈即可，對于厚膜的膠層可涂刷多次。IC封裝藥水具有剝鎳鍍層功能，有機封閉劑。南京IC除膠清潔劑

IC封裝藥水依使用運輸和儲存條件的不同，在1-3年內可防止表面形成硫化物。南京IC封裝藥水廠家供貨

IC清潔劑水清洗技術是今后清洗技術的發展方向，須設置純凈水源和排放水處理車間。IC清潔劑以水作為清洗介質，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑。可以除去水溶劑和非極性污染物。其清洗工藝特點是：安全性好，不燃燒、不炸裂，基本無毒；清洗劑的配方組成自由度大，對極性與非極性污染物都容易清洗掉，清洗范圍廣；多重的清洗機理。水是極性很強的極性溶劑，除了溶解作用外，還有皂化、乳化、置換、分散等共同作用，使用超聲比在有機溶劑中有效得多；作為一種天然溶劑，其價格比較低廉，來源普遍。南京IC封裝藥水廠家供貨