美國Ionpure LXM30ZEDI模塊主要幾種損壞情況：

     1、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期在大電流，小流量運行，積聚的熱量得不到散發，造成EDI接近兩極的膜片發熱變形,EDI濃水壓差增大，水質和水量都不同程度的下降。

     2、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養，EDI的膜片和通道結鈣鎂垢，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節，**終無法使用。

      3、美國Ionpure LXM30Z EDI模塊長期沒有清洗保養或長期停機沒有保護，EDI的膜片和通道滋生有機物，進出水壓差增大，造成產水水質下降，電壓上升，電流無法調節，**終無法使用。

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啟動清洗泵運行50分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態，最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。檢查清洗過程管道無泄漏。

   排掉清洗水箱內消毒液，并用RO水沖洗EDI出水至電導率降至100μs/cm以下。

4．堿洗

   1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解（可啟動清洗泵循環攪拌）。

   2）啟動清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環50分鐘，停止清洗泵。

   3）沖洗排掉清洗水箱內清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要沖太徹底。 浙江全國發貨美國IONPURE EDI模塊型號美國IONPURE EDI模塊上海純超環保指導安裝。

EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環,或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學品規范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產水水質的水引入濃水管線環中直到產水電導率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內部形成一個動態平衡。

淡水可從模塊底部進入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進入模塊，則從模塊底部出來；極水的進水與淡水進水同為一水流，只是分別進入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

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4、西門子（IONPURE）EDI模塊，降低運行成本。EDI設備運行只需要消耗電力，而混床技術還需要酸堿。所以DEI超純水設備節約酸堿降低了運行的成本。

  5、西門子（IONPURE）EDI模塊，操作更加的簡單，只需要調節電源的電壓、電流、實現了全自動的控制。

  6、西門子（IONPURE）EDI模塊，出水水質好，并且延長了設備的使用壽命。

  7、西門子（IONPURE）EDI模塊，設備占地小，廠房高度要求低，3米足夠。

  8、西門子（IONPURE）EDI模塊，設備安裝維修簡單便捷，任一膜塊的維修、更換都不影響其他膜塊的運行。

  9、西門子（IONPURE）EDI模塊，總投資少，EDI雖然本身價位高，但是節省了廠房用地成本，節省了運行成本。總體降低了總投資費用。 購買美國IONPURE EDI模塊上海純超環保售后服務。江蘇廠家供應美國IONPURE EDI模塊廠家報價

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清洗 隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為： - 硬度或金屬結垢，主要產生在濃水室內； - 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢； - EDI模塊和系統管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。江蘇廠家供應美國IONPURE EDI模塊廠家報價

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