MEMS制作工藝-太赫茲脈沖輻射探測:
光電導取樣光電導取樣是基于光導天線(photoconductiveantenna,PCA)發(fā)射機理的逆過程發(fā)展起來的一種探測THz脈沖信號的探測技術。如要對THz脈沖信號進行探測,首先,需將一個未加偏置電壓的PCA放置于太赫茲光路之中,以便于一個光學門控脈沖(探測脈沖)對其門控。其中,這個探測脈沖和泵浦脈沖有可調節(jié)的時間延遲關系,而這個關系可利用一個延遲線來加以實現,爾后,用一束探測脈沖打到光電導介質上,這時在介質中能夠產生出電子-空穴對(自由載流子),而此時同步到達的太赫茲脈沖則作為加在PCA上的偏置電場,以此來驅動那些載流子運動,從而在PCA中形成光電流。用一個與PCA相連的電流表來探測這個電流即可, MEMS傳感器基本構成是什么?湖南有什么MEMS微納米加工
MEMS制作工藝-微流控芯片:
微流控芯片技術(Microfluidics)是把生物、化學、醫(yī)學分析過程的樣品制備、反應、分離、檢測等基本操作單元集成到一塊微米尺度的芯片上,自動完成分析全過程。微流控芯片(microfluidicchip)是當前微全分析系統(tǒng)(MiniaturizedTotalAnalysisSystems)發(fā)展的熱點領域。
微流控芯片分析以芯片為操作平臺,同時以分析化學為基礎,以微機電加工技術為依托,以微管道網絡為結構特征,以生命科學為目前主要應用對象,是當前微全分析系統(tǒng)領域發(fā)展的重點。它的目標是把整個化驗室的功能,包括采樣、稀釋、加試劑、反應、分離、檢測等集成在微芯片上,且可以多次使用。 天津MEMS微納米加工服務熱線自動化檢測系統(tǒng)基于機器視覺,實現微流控芯片尺寸測量、缺陷識別與統(tǒng)計分析一體化。
基于MEMS技術的SAW器件的工作模式和原理:
聲表面波器件一般使用壓電晶體(例如石英晶體等)作為媒介,然后通過外加一正電壓產生聲波,并通過襯底進行傳播,然后轉換成電信號輸出。聲表面波傳感器中起主導作用的主要是壓電效應,其設計時需要考慮多種因素:如相對尺寸、敏感性、效率等。一般地,無線無源聲表面波傳感器的信號頻率范圍從40MHz到幾個GHz。圖2所示為聲表面波傳感器常見的結構,主要部分包括壓電襯底天線、敏感薄膜、IDT等。傳感器的敏感層通過改變聲表面波的速度來實現頻率的變化。
無線無源聲表面波系統(tǒng)包:發(fā)射器、接收器、聲表面波器件、通信頻道。發(fā)射器和接收器組合成收發(fā)器或者解讀器的單一模塊。圖3為聲表面波系統(tǒng)及其相互關聯(lián)的基礎部件。解讀器將功率傳送給聲表面波器件,該功率可以是收發(fā)器輸入的連續(xù)波,脈沖或者喝啾。一般地,聲表面波器件獲得的功率大小具有一定限制,以降低發(fā)射功率,從而得到相同平均功率的喝啾。根據各向同性的輻射體,接收的信號一般能通過高效的輻射功率天線發(fā)射。
MEMS傳感器的主要應用領域有哪些?
消費電子產品在MEMSDrive出現之前,手機攝像頭主要由音圈馬達移動鏡頭組的方式實現防抖(簡稱鏡頭防抖技術),受到很大的局限。而另一個在市場上較好的防抖技術:多軸防抖,則是利用移動圖像傳感器(ImageSensor)補償抖動,但由于這個技術體積龐大、耗電量超出手機載荷,一直無法在手機上應用。憑著微機電在體積和功耗上的突破,新的技術MEMSDrive類似一張貼在圖像傳感器背面的平面馬達,帶動圖像傳感器在三個旋轉軸移動。MEMSDrive的防抖技術是透過陀螺儀感知拍照過程中的瞬間抖動,依靠精密算法,計算出馬達應做的移動幅度并做出快速補償。這一系列動作都要在百分之一秒內做完,你得到的圖像才不會因為抖動模糊掉。 隨著科技的不斷進步,MEMS 微納米加工的精度正在持續(xù)提高,趨近于原子級別的操控。
MEMS制作工藝柔性電子的常用材料:
碳納米管(CNT)由于其高的本征載流子遷移率,導電性和機械靈活性而成為用于柔性電子學的有前途的材料,既作為場效應晶體管(FET)中的溝道材料又作為透明電極。管狀碳基納米結構可以被設想成石墨烯卷成一個無縫的圓柱體,它們獨特的性質使其成為理想的候選材料。因為它們具有高的固有載流子遷移率和電導率,機械靈活性以及低成本生產的潛力。另一方面,薄膜基碳納米管設備為實現商業(yè)化提供了一條實用途徑。 超薄石英玻璃雙面套刻加工技術,在 100μm 以上基板實現微流道與金屬電極的高精度集成。本地MEMS微納米加工按需定制
基于MEMS技術的RF射頻器件是什么?湖南有什么MEMS微納米加工
弧形柱子點陣的微納加工技術:弧形柱子點陣結構在細胞黏附、流體動力學調控中具有重要應用,公司通過激光直寫與反應離子刻蝕(RIE)技術實現該結構的精密加工。首先利用激光直寫系統(tǒng)在光刻膠上繪制弧形軌跡,**小曲率半徑可達5μm,線條寬度10-50μm;然后通過RIE刻蝕硅片或石英基板,刻蝕速率50-200nm/min,側壁弧度偏差<±2°。柱子高度50-500μm,間距20-100μm,陣列密度可達10?個/cm2。在細胞培養(yǎng)芯片中,弧形柱子表面通過RGD多肽修飾,促進成纖維細胞沿曲率方向鋪展,細胞取向率提升70%,用于肌腱組織工程研究。在微流控芯片中,弧形柱子陣列可降低流體阻力30%,減少氣泡滯留,適用于高通量液滴生成系統(tǒng),液滴尺寸變異系數<5%。公司開發(fā)的弧形結構設計軟件,支持參數化建模與加工路徑優(yōu)化,將設計到加工的周期縮短至3個工作日。該技術突破了傳統(tǒng)直柱結構的局限性,為仿生微環(huán)境構建與流體控制提供了靈活的設計空間,在生物醫(yī)學工程與微流控器件中具有廣泛應用前景。湖南有什么MEMS微納米加工