EVG的掩模對準系統含有：EVG610；EVG620 NT半自動/全自動掩模對準系統；EVG6200 NT半自動/全自動掩模對準系統；IQ Aligner 自動掩模對準系統；IQ Aligner NT自動掩模對準系統；

【EVG ® 610掩模對準系統】EVG

® 610是一個緊湊的和多用途R＆d系統，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。

EVG ® 610技術數據：EVG610支持多種標準光刻工藝，例如真空，硬，軟和接近曝光模式，并可選擇背面對準功能。此外，該系統還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，可滿足用戶需求的變化，轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其非常適合大學和研發應用。 新型的EVG120帶有通用和全自動光刻膠處理工具，能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基片。**光刻機中芯在用嗎

EVG120特征：

晶圓尺寸可達200毫米

超緊湊設計，占用空間**小

**多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板

用于旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會

化學柜，用于化學品的外部存儲

EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術提供了****的處理結果，當涉及到極端地形的保形涂層

CoverSpin TM旋轉蓋可降低光刻膠消耗并優化光刻膠涂層的均勻性

Megasonic技術用于清潔，聲波化學處理和顯影，可提高處理效率并將處理時間從數小時縮短至數分鐘

湖北掩模對準光刻機EVG在1985年發明了世界上第/一個底部對準系統，可以在頂部和雙面光刻。

IQ Aligner工業自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

對準方式：

上側對準：≤±0.5 μm

底側對準：≤±1,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

系統控制

操作系統：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除

產能

全自動：第/一批生產量：每小時85片

全自動：吞吐量對準：每小時80片

IQ Aligner特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量，實現了非接觸式接近模式

增強的振動隔離，有效減少誤差

各種對準功能提高了過程靈活性

跳動控制對準功能，提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎，薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經驗

手動基板裝載能力

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

IQ Aligner附加功能：

紅外對準–透射和/或反射

IQ Aligner技術數據：

楔形補償：全自動軟件控制

非接觸式

先進的對準功能：自動對準；大間隙對準；跳動控制對準；動態對準 EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內提供服務。

EVG101光刻膠處理系統的技術數據：

可用模塊：旋涂/ OmniSpray ® /開發

分配選項：

各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000 cP的粘度；

液體底漆/預濕/洗盤；

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）；

恒壓分配系統/注射器分配系統。

智能過程控制和數據分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能，提高效率

設備和過程性能跟/蹤功能：智能處理功能；事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米

EVG通過不斷開發掩模對準器來為這些領域做出巨大的貢獻，以提高**重要的光刻技術的水平。黑龍江光刻機當地價格

EVG101光刻膠處理機可支持**/大300 mm的晶圓。**光刻機中芯在用嗎

隨著現在科學技術的發展，儀器儀表行業發生了突飛猛進的發展，再加上當前計算機技術、網絡技術的進步和發展，組建網絡而構成實用的監控系統，可以提高生產效率和共享信息資源方向發展。當前儀器儀表行業產品發展呈現微型化、多功能化、智能化、網絡化四大發展趨勢。在計算機和互聯網的急速發展到整個世界的背景下，儀器儀表也開始向網絡化突進，結合新的科技設備，通過廣域網和局域網直接操控儀器儀表，對公司的管理，經營一體化，應用模式的分析等各大方面產生影響。有限責任公司企業通過網絡這個平臺與客戶直接的交流，突破了世界和空間的限制，行家遠程操控對儀器儀表進行維護和分析。高科技的產品也隨之而來。伴隨移動互聯網的爆發式增長，如今，它已經漸漸取代電子商務成為了整個互聯網產業增速**快的領域，而移動終端的入口也隨即成為了傳統行業的必爭之地。磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發行業進軍移動互聯網實現線上發展勢在必行。我們必須承認，在科學儀器上，我們跟其他地區相比，還有很大的差距。這個差距，就是我們提升的空間。合相關部門、大學和企業之力，中國的其他型必將在不遠的將來，在相關領域的基礎研究和重點光學部件研發上取得突破，產品進入世界中**水平，企業得到臺階式上升，迎頭趕上，與全球出名企業并駕齊驅。**光刻機中芯在用嗎

岱美儀器技術服務（上海）有限公司主營品牌有岱美儀器技術服務，發展規模團隊不斷壯大，該公司其他型的公司。岱美儀器技術服務是一家有限責任公司企業，一直“以人為本，服務于社會”的經營理念;“誠守信譽，持續發展”的質量方針。以滿足顧客要求為己任；以顧客永遠滿意為標準；以保持行業優先為目標，提供***的磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發。岱美儀器技術服務自成立以來，一直堅持走正規化、專業化路線，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持。