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奧地利納米壓印要多少錢

來源: 發布時間:2020-08-07

    NIL300mmEV集團企業技術開發和知識產權總監MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術供應鏈中的各個合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個開放式的創新孵化器,從而縮短創新光子器件和應用的開發周期和上市時間。我們很高興與肖特公司合作,證明EVG光刻/納米壓印技術解決方案的價值,不僅有助于新技術和新工藝的開發,還能夠加速新技術和新工藝在大眾市場中的采用。我們正在攜手肖特開展的工作,彰顯了光刻/納米壓印技術設備和工藝的成熟性,為各種令人興奮的基于光子學的新產品和新應用的300-mm制造奠定了基礎。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓是**AR/MR設備的關鍵組件,已經實現了批量生產。產品組合提供了高達,支持深度沉浸的AR/MR應用,視野更廣,高達65度。在與增強現實硬件制造商進行多年研發之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。這款**產品在上市一年后便榮獲了享有盛譽的2019年SID顯示行業獎(SIDDisplayIndustryAward2019)。關于肖特肖特是特種玻璃、微晶玻璃和相關高科技材料領域的**國際技術集團。公司積累了超過130年的經驗,是眾多行業的創新合作伙伴。EVG的熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術,具有非常高的復制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。奧地利納米壓印要多少錢

    ”EV集團的技術研發與IP主管MarkusWimplinger說,“通過與供應鏈的關鍵企業的合作,例如DELO,我們能夠進一步提高效率,作為與工藝和設備**們一同研究并建立關鍵的新生產線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級光學儀器與NIL設備與光學材料的技術與市場**企業。雙方在將技術與工藝流程應用于大規模生產方面有可靠的經驗,”DELO的董事總經理RobertSaller說道。“通過合作,我們將提供自己獨特的技術,將晶圓級工藝技術應用于光學器件和光電器件制造中,EVG也成為我們***產品開發的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務。"晶圓級光學元件的應用解決方案EVG的晶圓級光學器件解決方案為移動式消費電子產品提供多種新型的光學傳感設備。主要的例子是:3D感應,飛行時間,結構光,生物特征身份認證,面部識別,虹膜掃描,光學指紋,頻譜檢測,環境感應與紅外線成像。其它應用領域包括汽車照明,光地毯,平視顯示器,車內感應,激光雷達,內窺鏡照相機醫學成像,眼科設備與手術機器人。EVG的晶圓級光學儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。廣東納米壓印有哪些應用EVG ? 520 HE是熱壓印系統。

HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區域烙印覆蓋

批量生產**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:≤±3微米

自動分離:支持的

前處理:提供所有預處理模塊

迷你環境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


納米壓印應用一:鏡片成型

晶圓級光學(WLO)的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模,通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,可以輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優先。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。

EVG ® 7200 LA特征:

專有SmartNIL ®技術,提供了****的印跡形大面積

經過驗證的技術,具有出色的復制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本

強大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容


EVG ® 7200 LA技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)

對準:可選的光學對準:≤±15 μm

自動分離:支持的

迷你環境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。重慶納米壓印國內代理

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術。奧地利納米壓印要多少錢

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


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岱美儀器技術服務(上海)有限公司一直專注于磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】,是一家儀器儀表的企業,擁有自己**的技術體系。公司目前擁有專業的技術員工,為員工提供廣闊的發展平臺與成長空間,為客戶提供高質的產品服務,深受員工與客戶好評。誠實、守信是對企業的經營要求,也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。一直以來公司堅持以客戶為中心、磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發市場為導向,重信譽,保質量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。