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廣西納米壓印用于生物芯片

來源: 發布時間:2020-06-18

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸,可在印模和基材之間實現出色的楔形補償

三個**控制的Z軸,用于壓印抗蝕劑的總厚度變化(TTV)控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL,鏡片成型


曝光源:汞光源

對準:≤±0.5微米

自動分離:支持的

前處理:涂層:水坑點膠(可選)

迷你環境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。廣西納米壓印用于生物芯片

       通過中心提供的試驗生產線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產工藝和設備轉移至能夠大規模生產波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產設備和工藝技術方面的專業知識,到2019年,AR終端用戶產品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業中的*低價位。 芯片納米壓印自動化測量EVG紫外光納米壓印系統有: EVG?610,EVG?620NT,EVG?6200NT,EVG?720,EVG?7200等。

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統支持各種設備和應用程序的生產,包括用于增強/虛擬現實(AR / VR)頭戴式耳機的光學設備,3D傳感器,生物醫學設備,納米光子學和等離激元學。


HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區域烙印覆蓋

批量生產**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統

用于大面積****的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統使用EVG專有且經過量證明的SmartNIL技術,將納米壓印光刻(NIL)縮放為第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術和光子元件等應用,至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟有效的方法,因為它不受光學系統的限制,并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,提供了低至40 nm *的出色保形壓印結果。憑借獨特且經過驗證的設備功能(包括****的易用性)以及高水平的工藝專業知識,EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業需求。

*分辨率取決于過程和模板 SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優勢,同時保留可擴展性和易于維護的特點。

納米壓印應用二:面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經過大量證明的SmartNIL技術的***進展,已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上實現。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術和光子元件等應用,至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法,因為它不受光學系統的限制,并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。


EVG620 NT支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。連續納米壓印有誰在用

岱美儀器代理的SmartNIL是一項關鍵的啟用技術,可用于顯示器,生物技術和光子應用中的許多新創新。廣西納米壓印用于生物芯片

EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數據

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


廣西納米壓印用于生物芯片

岱美儀器技術服務(上海)有限公司發展規模團隊不斷壯大,現有一支專業技術團隊,各種專業設備齊全。在岱美儀器技術服務近多年發展歷史,公司旗下現有品牌岱美儀器技術服務等。公司堅持以客戶為中心、磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】市場為導向,重信譽,保質量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。岱美儀器技術服務始終以質量為發展,把顧客的滿意作為公司發展的動力,致力于為顧客帶來***的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發。