輪廓儀的性能 

測量模式

移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）

樣 品 臺

150mm/200mm/300mm 樣品臺（可選配）

XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°

可選手動/電動樣品臺

CCD 相機像素

標配：1280×960

視場范圍

560×750um（10×物鏡）

具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機

光學系統

同軸照明無限遠干涉成像系統

光 源

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦（可選電動聚焦）

Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機械掃描，拓展達 10mm )

縱向分辨率 ＜0.1nm

RMS 重復性* 0.005nm，1σ

臺階測量** 準確度 ≤0.75％；重復性 ≤0.1%，1σ

橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）

檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD  共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多***盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。美國輪廓儀廠家

    超納輪廓儀的主設計簡介:

中組部第十一批“****”****，美國KLA-Tencor（集成電路行業檢測設備市場的**企業）***研發總監，干涉測量技術**美國上市公司ADE-Phaseift的總研發工程師，創造多項干涉測量數字化所需的關鍵算法，在光測領域發表23個美國專利和35篇學術論文3個研發的產品獲得大獎，國家教育部***批公派研究生,83年留學美國。光學輪廓儀可廣泛應用于各類精密工件表面質量要求極高的如：半導體、微機電、納米材料、生物醫療、精密涂層、科研院所、航空航天等領域。可以說只要是微型范圍內重點部位的納米級粗糙度、輪廓等參數的測量，除了三維光學輪廓儀，沒有其它的儀器設備可以達到其精度要求。（網絡）。 晶片輪廓儀價格NanoX-8000 的XY 平臺比較大移動速度：200mm/s 。

2）共聚焦顯微鏡方法 

共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多***盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。LED光源通過多***盤（MPD）和物鏡聚焦到樣品表面上，從而反射光。反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機上。傳統光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節，但是在共焦圖像中，通過多***盤的操作濾除模糊細節（未聚焦），只有來自聚焦平面的光到達CCD相機。因此，共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內獲得高 分辨率。 每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片，在不同的焦點高度捕獲圖像產生這樣的圖像的堆疊，共焦顯微鏡通過壓電驅動器和物鏡的精確垂直位移來實現。200到400個共焦圖像通常在幾秒內被捕獲，之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。

輪廓儀的培訓

一、 培訓承諾

    系統建成后，我公司將為業主提供為期1天的**培訓和技術資詢；培訓地點可以在我公司，亦或在工程現場；

    系統操作及管理人員的培訓人數為10人，由業主指定，我公司將確保相關人員正確使用該系統；

1.1. 培訓對象

    系統操作及管理人員（培訓對象須具有專業技術的技術人員或實際值班操作人員）；

    其他業主指定的相關人員。

1.2. 培訓內容

    系統操作使用說明書。

    培訓課程的主要內容是系統的操作、系統的相關參數設定和修改和系統的維修與保養與簡單升級等，具體內容如下：

    * 系統文檔解讀；

    * 系統的技術特點、安裝維護和系統管理方式；

    * 系統一般故障排除。

每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片，在不同的焦點高度捕獲圖像產生這樣的圖像的堆疊。

NanoX-系列輪廓儀**性客戶

? 集成電路相關產業

– 集成電路先進封裝和材料：華天科技，通富微電子，江蘇納佩斯

半導體，華潤安盛等

? MEMS相關產業

– 中科院蘇州納米所，中科電子46所，華東光電集成器件等

? 高 效太陽能電池相關產業

– 常州億晶光電，中國臺灣速位科技、山東衡力新能源等

? 微電子、FPD、PCB等產業

– 三星電機、京東方、深圳夏瑞科技等  

具備 Global alignment & Unit alignment

自動聚焦范圍 ： ± 0.3mm

XY運動速度 **快

如果有什么問題，請聯系我們。

由于光罩中電路結構尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。山東輪廓儀供應商家

輪廓儀反映的是零件的宏觀輪廓。美國輪廓儀廠家

    比較大視場Thefilm3D以10倍物鏡優異地提供更寛廣的2毫米視野，其數位變焦功能有助于緩解不同應用時切換多個物鏡的需要，更進一步減少總體成本。手動式物鏡轉盤能一次搭載四組物鏡，能滿足需要多種倍率物鏡交替使用的測量應用。索取技術資料索取報價性能規格厚度范圍,WSI50nm-10mm厚度范圍,PSI0-3μm樣品反射率範圍-100 %電腦要求機械規格Z范圍100mmPiezo(壓電)范圍500μmXY平臺類型手動或自動XY平臺范圍100mmx100mm相機2592x1944(5百萬像素)系統尺寸，寬x深x高300mmx300mmx550mm系統重量15kg物鏡1(NikonCFICEpiPlan)放大倍率5X10X20X50X100X視場xmmxmmxmmxmmxmm采樣空間2μmμmμmμmμm1分別出售2樣本上之像素大小常見的選購配件：urionNano30主動式防震臺4微米，2微米，和100納米多臺階高度標準。美國輪廓儀廠家

岱美儀器技術服務（上海）有限公司專注技術創新和產品研發，發展規模團隊不斷壯大。一批專業的技術團隊，是實現企業戰略目標的基礎，是企業持續發展的動力。公司以誠信為本，業務領域涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，我們本著對客戶負責，對員工負責，更是對公司發展負責的態度，爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。